温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提出了一种用于对制程工具中的腔室进行等离子体清洁的方法。衬底被放置在其中具有污染物组的制程腔室中的卡盘上。在该制程腔室中进行等离子体制程，以将该污染物组转移到该衬底的上表面上。其上具有该污染物组的衬底被从该制程腔室移除。...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。