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本发明公开了一种光刻设备（２），包括：辐射源（ＳＯ），配置成提供辐射（２００）；辐射收集器（ＣＯ），配置成收集来自辐射源（ＳＯ）的辐射（２００）；照射系统（ＩＬ）和探测器（３００）。探测器（３００）设置成与照射系统（ＩＬ）的相对于其对准所述...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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