温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

等离子体处理装置（１１）具备：在其内部对被处理基板Ｗ进行等离子体处理的处理容器（１２）；配置在处理容器（１２）内且将被处理基板（Ｗ）保持在其上面的保持台（１４）；被设置在与保持台（１４）对置的位置，并且将微波向处理容器（１２）内导入的电介质...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。