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本发明公开了电感耦合型等离子体发生源电极及具备该电感耦合型等离子体发生源电极的基板处理装置。本发明的等离子体发生源电极（３６０），产生基板处理用的电感耦合型等离子体（ＩＣＰ：Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｐｌａｓｍａ），具备：弯折...
该专利属于泰拉半导体株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过泰拉半导体株式会社授权不得商用。

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