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等离子体处理装置（３１）具备：处理容器（３２）；等离子体处理用气体供给部（３３），其对处理容器（３２）内供给等离子体处理用的气体；保持台（３４），在其上保持被处理基板（Ｗ）；等离子体产生机构（３９），其使处理容器（３２）内产生等离子体；气体...
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