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本发明是能够回收半导体材料外延过程所产生废气中剧毒物质砷微粒的设备。由密封桶、放水口、隔板、进气管、桶底、旋转轴、导流板、离心桶、桶盖、排气管、进水管、喷头、吸泵、填充物、电机组成。采用水与废气反向流动，通过无规则排列的的填充物增加接触机会...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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