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中国科学院微电子研究所
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一种场限环结构制造技术
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文档序号:7054490
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本实用新型公开了一种场限环结构,包括第一导电类型的衬底、衬底内的第二导电类型的主结区以及第二导电类型的场限环,z轴方向为主结区及场限环的长度方向,其特征在于,在主结区与相邻场限环之间以及各相邻场限环之间的衬底内、沿z轴方向上形成有PIN结构...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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