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一种靶材,用于CPA型溅射设备,所述靶材截面为工字形,包括主体结构、起固定作用的并沿所述主体结构分别向两侧延伸的两个第一外结构以及作为靶源并沿所述主体结构分别向两侧延伸的两个第二外结构;所述主体结构厚度为9~13mm,所述第二外结构厚度为6...该专利属于深圳深爱半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳深爱半导体股份有限公司授权不得商用。
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一种靶材,用于CPA型溅射设备,所述靶材截面为工字形,包括主体结构、起固定作用的并沿所述主体结构分别向两侧延伸的两个第一外结构以及作为靶源并沿所述主体结构分别向两侧延伸的两个第二外结构;所述主体结构厚度为9~13mm,所述第二外结构厚度为6...