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根据本发明的真空处理装置配备有：并列地连接到大气输送室的背面侧的第一和第二锁定室，在所述第一锁定室的后方侧与之连接的第一输送室，在该第一输送室的后方侧与之连接的第二输送室，在所述第二锁定室的后方侧与之连接的第三输送室，配置在所述第一输送室与...
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