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一种半导体装置及其制造方法,该装置包括:一基板,具有一密封环区与一电路区;多个假栅极,位于该基板的该密封环区之上;以及一密封环结构,设置于该密封环区内的所述多个假栅极之上。该制造方法包括:提供一基板,具有一密封环区与一电路区;形成多个假栅极...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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一种半导体装置及其制造方法,该装置包括:一基板,具有一密封环区与一电路区;多个假栅极,位于该基板的该密封环区之上;以及一密封环结构,设置于该密封环区内的所述多个假栅极之上。该制造方法包括:提供一基板,具有一密封环区与一电路区;形成多个假栅极...