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本发明涉及一种降低相变存储器单元操作功耗的方法，包括如下步骤：(1)在SiO2/Si基片上涂覆CeO2薄膜；(2)将步骤(1)中制备的涂覆有CeO2薄膜的SiO2/Si基片退火处理，制得具有缓冲层的SiO2/Si基片；(3)在步骤(2)中制...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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