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本发明公开了一种真空镀膜设备，包括真空腔体(22)和用于控制真空腔体(22)内部压力的压力调节部件(24)，所述真空腔体(22)和所述压力调节部件(24)之间连接有沉积装置(27)，所述沉积装置(27)包括沉积腔体(271)和位于所述沉积腔...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。