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基板处理装置制造方法及图纸
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文档序号:6836879
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本发明提供能够在抑制图案歪斜、产生污垢的同时对被处理基板进行干燥的基板处理装置等。液槽(32)在将被处理基板(W)浸渍在液体中的状态下保持该被处理基板(W),在处理容器(31)中,将该液槽配置在内部的处理空间(310)中,且将该液槽内的液体...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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