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本发明属于制备涂层的技术领域。一种熔炼坩埚用涂层的制备方法，首先对熔炼坩埚进行烘制预处理，然后采用PVP无水乙醇溶液与氮化硅配置悬浊液，将悬浊液均匀喷涂于熔炼坩埚内壁，最后将喷好涂层的熔炼坩埚进行预烧处理，即可在熔炼坩埚内壁得到一层厚度均匀...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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