下载半导体结构的形成方法的技术资料

文档序号:6550912

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本发明提供一种半导体结构的形成方法,包含:提供一基底,上述基底在其一表面具有一鳍状物;以及形成一鳍式场效应晶体管,其还具有:在上述鳍状物上形成一栅极堆叠结构;在上述栅极堆叠结构的一侧壁上形成一薄层间隙壁;及以外延的方式从上述鳍状物生长一外延...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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