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本发明描述了一种生成和保持用于处理基板的弯液面的趋近 头。该趋近头包括排列于趋近头表面的多个弯液面喷嘴，该弯液面 喷嘴被配置为向弯液面供应液体，排列于该趋近头的该表面的多个 真空开口，该真空开口被布置为完全包围该多个弯液面喷嘴，排列 于趋近...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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