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一种等离子体浸没离子注入系统技术方案
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下载一种等离子体浸没离子注入系统的技术资料
文档序号:6324496
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本实用新型涉及半导体处理技术和设备领域,具体其涉及一种等离子体浸没离子注入系统,包括离子注入腔室、电源部分、注入电极部分和真空部分,还包括掺杂源腔室和隔板;所述掺杂源腔室和所述离子注入腔室通过隔板相连。本实用新型提既提高了掺杂注入的均匀性,...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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