温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种应用于３２ｎｍ以下技术节点的常压自由基束流清洗新方法，其特征在于：该新方法是采用一个常压介质阻挡等离子体发生器，工作气体可以采用氮气、氮气／氢气的混合气体来产生高密度的自由基，并在一定气体压力下把放电等离子体区产生的高密度自由基由喷口向...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。