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一种可以修整抛光晶片平整度的抛光头,其特征在于,包括:一晶片固定盘;一上抛光盘,该上抛光盘的断面为倒T形,该上抛光盘位于晶片固定盘的上方;一气囊,该气囊固定在上抛光盘的底面,该气囊可以充气;一抛光垫,该抛光垫固定在气囊的底面;欲将晶片抛光时...该专利属于云南中科鑫圆晶体材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过云南中科鑫圆晶体材料有限公司授权不得商用。
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一种可以修整抛光晶片平整度的抛光头,其特征在于,包括:一晶片固定盘;一上抛光盘,该上抛光盘的断面为倒T形,该上抛光盘位于晶片固定盘的上方;一气囊,该气囊固定在上抛光盘的底面,该气囊可以充气;一抛光垫,该抛光垫固定在气囊的底面;欲将晶片抛光时...