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提供一种在基板上的电介质层中刻蚀特征的方法。将具有该电介质层的该基板放置到刻蚀反应室内的下电极上，其中该电介质层在该基板上。将刻蚀气体传送入该刻蚀反应室。将具有第一频率的第一RF功率传送入该刻蚀反应室，其中该第一频率在100kHz到600k...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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