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本发明一实施例提供一种集成电路元件及其形成方法，该集成电路元件包括：一中介层，大抵不具有集成电路元件，其中该中介层包括：一基底，具有一第一侧及相反于该第一侧的一第二侧；多个穿基底导电结构，位于该基底之中；一第一内连线结构，位于该基底的该第一...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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