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本发明涉及一种非甾体抗炎药的缓释剂及其制备方法，特别涉及一种二氟尼柳缓释剂及其制备方法，所述的二氟尼柳缓释剂是以阴离子层状材料水滑石为主体，二氟尼柳为插层客体的插层水滑石晶体结构，化学组成如化学式所示，其中Ｍ↑［２＋］是Ｍｇ↑［２＋］、Ｚｎ...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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