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本发明涉及一种计算机硬盘抛光后用的清洗剂组合物，其特征在于该清洗剂含有ＺＥＴＡ电位调节剂；该清洗剂组合物具有以下的组成成分及其重量百分含量：表面活性剂５～１５％，ＺＥＴＡ电位调节剂２～８％，缓蚀剂０．２～１．５％，碱性氢氧化钠或氨水０．２～...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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