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本发明提供用于抛光基板的化学机械抛光组合物。该抛光组合物包含氧化剂、钙离子、有机羧酸及水，其中该抛光组合物具有１．５至７的ｐＨ值。本发明进一步提供一种利用上述抛光组合物对基板进行化学机械抛光的方法。...
该专利属于卡伯特微电子公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡伯特微电子公司授权不得商用。

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