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提供一种气体处理装置，该气体处理装置容易管理，维修的频率低，而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理，通用性高。气体处理装置（１０）具有反应器（１２），该反应器（１２）围绕大气压等离子体（Ｐ）和朝大气压等离子体（Ｐ）...
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