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提供一种确定等离子处理系统的反应室中实际气体流率的方法。该方法包括在质量流量控制器（ＭＦＣ）的控制下由气流输送系统将气体输送至小孔，其设在该反应室的上游。该方法还包括对该气体加压以在该小孔内建立扼流状态。该方法进一步包括用一组压力传感器测量...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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