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具有自对准特征的沟槽栅极FET制造技术
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下载具有自对准特征的沟槽栅极FET的技术资料
文档序号:5472578
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一种场效应晶体管是如下形成的。在第一导电类型的半导体区中形成沟槽。形成在每个沟槽中凹入的栅电极。使用第一掩模,通过注入掺杂物在半导体区中形成第二导电类型的体区。使用第一掩模,通过注入掺杂物在体区中形成第一导电类型的源区。...
该专利属于飞兆半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过飞兆半导体公司授权不得商用。
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