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用于形成具有高纵横比接触开口的功率器件的结构和方法技术
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下载用于形成具有高纵横比接触开口的功率器件的结构和方法的技术资料
文档序号:5459569
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本发明提供了一种场效应晶体管(FET),包括在第二导电类型的半导体区上方的第一导电类型的本体区。第二导电类型的源极区在本体区上方延伸。栅电极邻近于本体区延伸但是通过栅极电介质层与本体区绝缘。接触开口延伸到相邻的栅电极之间的本体区中。种子层沿...
该专利属于飞兆半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过飞兆半导体公司授权不得商用。
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