专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
飞兆半导体公司
>
形成具有低栅电阻的沟槽栅晶体管的结构及方法技术
>技术资料下载
下载形成具有低栅电阻的沟槽栅晶体管的结构及方法的技术资料
文档序号:5457931
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种场效应晶体管包括在第二导电类型的半导体区上方的第一导电类型的体区,使得该体区与半导体区形成p-n结。沟槽延伸穿过体区并在半导体区中终止。第二导电类型的源区在邻近沟槽的体区上方延伸,使得该源区与体区形成p-n结。栅极介电层衬于每个沟槽的侧...
该专利属于飞兆半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过飞兆半导体公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。