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本发明提供一种化学机械抛光组合物，其基本上由二氧化硅、氧化剂、季铵化合物、及水组成。本发明进一步提供一种使用前述抛光组合物来化学机械抛光基板的方法。当用该抛光组合物抛光介电膜时，其提供提高了的抛光速率。...
该专利属于卡伯特微电子公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡伯特微电子公司授权不得商用。

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