温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供一种用于在蚀刻层提供特征的方法。在蚀刻层上提供具有牺牲特征的图案化牺牲层。在该牺牲特征内形成共形侧壁，其包括至少两个侧壁形成工艺循环，其中每个循环包括侧壁沉积阶段和侧壁轮廓成形阶段。将共形侧壁之间的图案化牺牲层部分去除，留下其间具有间隙...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。