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能够作为膜或涂层涂覆在衬底上且能够为磁应用提供适当的磁和电性质的材料包括钴、硼、以及钨和磷二者中的至少一个。该材料的电阻率介于约２０和１０００μＯｈｍ－ｃｍ之间、饱和磁通密度介于约０．１和１．８特斯拉之间、矫顽力小于约５奥斯特、且相对磁导率...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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