具有软磁性质的膜制造技术

能够作为膜或涂层涂覆在衬底上且能够为磁应用提供适当的磁和电性质的材料包括钴、硼、以及钨和磷二者中的至少一个。该材料的电阻率介于约２０和１０００μＯｈｍ－ｃｍ之间、饱和磁通密度介于约０．１和１．８特斯拉之间、矫顽力小于约５奥斯特、且相对磁导率介于约１００和２０００之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有软磁性质的膜
技术介绍
本专利技术的实施例一般涉及磁应用，尤其涉及具有软磁性质的材料。
技术介绍
磁记录介质、磁感应器/转换器电路、读取/写入记录磁头、传感器应用和 其它磁性应用都需要具有适当磁和电性质的材料。通过将具有适当特性的膜或 其它涂层涂覆到材料，来将这些性质频繁地赋予该材料。溅射膜和镍合金是这 种涂层的例子。不幸的是，现有涂层遭受各种缺点，使其不合需要。由于较慢 的沉积速率和需要频繁换靶，溅射和其它形式的物理气相沉积例如一般与大批 量制造是不兼容的，尤其是对于厚度大于约l微米的膜。镍合金引起安全和环境关注，因为Ni++是致癌的。坡莫合金——通常用作磁性材料的镍铁化合物——由于其低电阻率而遭受高频操作期间的涡流损耗。因此，现在需要一种 表现出软磁性质和高电阻率的、与大批量制造环境兼容且不会受到安全和其它 环境关注的材料。附图简述通过阅读以下的详细并结合附图将更好地理解所公开的实施例，附图中 附图说明图1是作为涂层或膜涂覆在下面的衬底上的根据本专利技术的实施例的材料 的横截面视图2是示出获得可在磁和其它应用中使用的结构的根据本专利技术的实施例 的方法的流程图3是示出根据本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种材料，其包括：　钴、硼、以及钨和磷两者中的至少一者，　其中所述材料具有：　介于约２０和约１０００μＯｈｍ－ｃｍ之间的电阻率；　介于约０．　１至约１．８特斯拉之间的饱和磁通密度；　小于约５奥斯特的矫顽力；以及 　介于约１００和约２０００之间的相对磁导率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：AM法加多，朴昌珉，
申请(专利权)人：英特尔公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]