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本发明公开了一种聚马来酸酐薄膜的制备方法。即将一定量的马来酸酐和镀膜基片载玻片置于等离子体沉积炉中，抽本底真空至２．０×１０－３Ｐａ后，升温５０～２００℃，调节腔室压力０～５０Ｐａ，与５～３０ｗ的功率下，放电５～３０ｍｉｎ，即可在载玻片上镀...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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