温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种光刻设备，包括被配置以调节辐射束的照射系统和被配置以支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置被配置以将图案赋予辐射束。所述设备包括图案形成装置清洁系统，所述图案形成装置清洁系统被配置以提供静电力至污染物颗粒，所述污染物颗粒位于图案形成装...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。