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本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置（ＲＥＤ）的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。ＲＥＤ的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离Ｒ...该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司;ＡＳＭＬ控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司;ＡＳＭＬ控股股份有限公司授权不得商用。