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光刻设备（１）包括被构造且被布置以将辐射束（Ｂ）投影到衬底（Ｗ）的目标部分（Ｃ）上的投影系统（ＰＳ）、具有感测表面（２０２）的内部传感器（２０１）和相对于传感器（２０１）可移动的微小反应器（２１０）。微小反应器包括用于包含氢的气体（２２６）...该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司;卡尔蔡司ＳＭＴ有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司;卡尔蔡司ＳＭＴ有限责任公司授权不得商用。