包含内部传感器和微小反应器的光刻设备和用于处理内部传感器的感测表面的方法技术

光刻设备（１）包括被构造且被布置以将辐射束（Ｂ）投影到衬底（Ｗ）的目标部分（Ｃ）上的投影系统（ＰＳ）、具有感测表面（２０２）的内部传感器（２０１）和相对于传感器（２０１）可移动的微小反应器（２１０）。微小反应器包括用于包含氢的气体（２２６）的入口（２２０）、氢基产生器（２６０）和用于包含氢基的气体（２６６）的出口（２３０）。微小反应器（２１０）被构造且被布置以产生包含氢基的局部微小环境（２５５），用于处理感测表面（２０２）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含内部传感器和微小反应器的光刻设备和用于处理内部 传感器的感测表面的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2008年4月15日申请的美国临时申请第61/071，156号的权益，在 此通过参考将其全部内容并入本文中。
本申请涉及一种包含内部传感器和微小反应器的光刻设备。本专利技术还涉及一种用 于处理光刻设备的内部传感器的感测表面的方法。本专利技术还涉及一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上) 的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选 地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可 以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯的一 部分)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀 剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备 包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每 一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，所述光刻设备包括：　　投影系统，被构造且被布置以将辐射束投影到衬底的目标部分上；　　内部传感器，具有感测表面；和　　微小反应器，其相对于所述传感器是可移动的，所述微小反应器包括：　　用于包含氢的气体的入口，　　氢基产生器，和用于包含氢基的气体的出口，　　所述微小反应器被构造且被布置以产生包括氢基的局部微小环境，以处理所述感测表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：JHJ莫尔斯，BT沃尔斯克利基恩，DH厄姆，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]