温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种光刻设备，包括：等离子体源，其包括配置成包围等离子体形成位置（２）的容器（１）、配置成将光辐射（８）转移到或离开所述容器的光学装置（３）和反射器（６），反射器（６）布置在所述光学装置和所述等离子体形成位置源之间的光学路径上。所述反射器配...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。