温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种化学机械抛光设备的研磨头装置，包括：功能台，所述功能台用于放置待研磨衬底；设置于所述功能台的多重功能孔配置区，其中至少部分所述功能孔配置区配置有功能孔。本发明提供的研磨头装置具有合理的功能孔布局，使得具有上述功能孔布局的研磨头能够在化学...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。