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本发明揭示一种具有下流量均衡器（ｌｏｗｅｒｅｄ?ｆｌｏｗ?ｅｑｕａｌｉｚｅｒ）与下腔室内衬的等离子体处理腔室。在蚀刻处理中，可能从处理腔室不均匀地抽吸处理气体，这将导致不均匀的衬底蚀刻。通过将从腔室排出的处理气体的流量均等化，可以达成更均匀...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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