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本发明提供一种工艺腔室、工艺方法及处理控制装置，工艺腔室包括腔室本体、承载部件、第一检测部件和第二检测部件，承载部件可升降的设置在腔室本体内，用于承载晶圆，第一检测部件和第二检测部件分别与腔室本体配合设置，第一检测部件和第二检测部件用于检测...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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