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本发明涉及一种用于沉积至少一个氟化物层(2)的方法，该方法包括：在多个ALD循环中，通过光辅助原子层沉积、即ALD将氟化物层(2)沉积在衬底(3)上。该方法包括至少在多个ALD循环的一部分中、尤其在所有的ALD循环中用UV/VIS光(10a...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本发明涉及一种用于沉积至少一个氟化物层(2)的方法，该方法包括：在多个ALD循环中，通过光辅助原子层沉积、即ALD将氟化物层(2)沉积在衬底(3)上。该方法包括至少在多个ALD循环的一部分中、尤其在所有的ALD循环中用UV/VIS光(10a...