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具有高温和气体均匀性的立式双温区CVD设备制造技术
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下载具有高温和气体均匀性的立式双温区CVD设备的技术资料
文档序号:45870200
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本发明公开了一种具有高温和气体均匀性的立式双温区CVD设备,包括:石英管,石英管为立式,其内设置基片台,所述基片台将石英管分为上下两个温区,每个温区通过电磁感应加热装置进行加热;节流阀,所述节流阀设置流量传感器,用于控制气体的流量,实现气流...
该专利属于华南理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南理工大学授权不得商用。
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