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本发明提供一种保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统，能够在表面具有多层图案化层的基板的周缘部适当地形成保护膜。保护膜形成方法包括：工序(A)，一边使基板旋转，一边从位于基板的表面侧的表面侧涂布部向基板的表面供给用于形成保护膜的涂布...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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