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本发明提供了一种光学元件不同深度下耐辐照性能的评价方法。本发明的评价方法包括：利用高能量密度激光辐照光学元件获取膜层信息；对光学元件进行表面分析获取荧光光谱和原子力显微镜图像，记录典型缺陷数量；根据辐照刻蚀深度、表面缺陷平均数量和辐照前后缺...
该专利属于北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司授权不得商用。

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