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一种用于处理室的气体输送系统包含：第一流路，其耦合到还原气体源，并被配置为从还原气体源向处理室供应还原气体；第二流路，其耦合到前体气体源，并被配置为从前体气体源向处理室供应前体气体；第三流路，其耦合到第一氮气体源，并被配置为在将还原气体供应...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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