下载半导体结构及其形成方法的技术资料

文档序号:45164020

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一种半导体结构及其形成方法,其中,形成方法包括:在衬底内形成第一开口;在所述第一开口的侧壁形成侧墙,能够阻挡所述第一开口侧壁的衬底晶体的生长;形成所述侧墙之后,在所述第一开口内和所述衬底上形成外延层,所述外延层内具有对应所述第一开口的第二开...
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