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保护罩集尘组件、半导体制造设备以及保护罩清洁方法技术
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文档序号:45156785
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本发明提供一种保护罩集尘组件、半导体制造设备以及保护罩清洁方法,保护罩集尘组件包括:保护罩,用于套设于导电环的外部,形成集尘区域;保护罩的底部设置有与集尘区域相连通的容置腔;集尘盒,可拆卸地设置于容置腔中;集尘盒具有盒体和盒盖,盒盖具有密封...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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