温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种基板处理装置，抑制装置的尺寸，并且使所配置的单片式腔室的数量增加，从而改善处理量。根据本发明，由于能将单片式腔室在铅垂方向上层叠，因此，能提供即使地面面积与以往的装置相同也能搭载更多的单片式腔室的基板处理装置。而且，若构成为独...
该专利属于株式会社斯库林集团所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社斯库林集团授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。